EM-WoSExpert Systems with Applications2025-11-24第 301 卷，130506-130506高影响力 · 前 10%

Q-learning enhanced multi-objective particle swarm optimization for photolithography-etching scheduling in semiconductor manufacturing

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Expert Systems with ApplicationsElsevier

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ISSN: 0957-4174

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JIANG Y, YANG F, LI C. Q-learning enhanced multi-objective particle swarm optimization for photolithography-etching scheduling in semiconductor manufacturing[J]. Expert Systems with Applications, 2025, 301: 130506-130506. DOI:10.1016/j.eswa.2025.130506.

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学科: 管理学管理科学与工程工业与制造工程
类型: 研究论文
期刊: Expert Systems with Applications
卷期页: 第 301 卷，130506-130506
出版: 2025-11-24
语言: 英语
DOI: 10.1016/j.eswa.2025.130506

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